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germaniumthinfilms相关论文
退火温度对锗薄膜光学性能和表面结构的影响
研究了退火温度对电子束蒸发制备的锗薄膜光学性能和表面结构的影响规律.在硅基底上制备了厚度约850 nm的Ge薄膜,分别在350、400、......
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annealing
germanium thin films
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